國內(nèi)光刻機設(shè)備現(xiàn)狀可以從技術(shù)水平、市場份額、企業(yè)競爭力以及面臨的挑戰(zhàn)等方面來進行分析。一、技術(shù)水平國內(nèi)光刻機技術(shù)在近年來取得了顯著進步，但與國際領(lǐng)先水平相比仍存在一定差距。目前，國內(nèi)光刻機的技術(shù)水平主要集中在90nm至180nm的精度范圍內(nèi)，而世界領(lǐng)先水平已經(jīng)達到了5nm甚至3nm。不過，值得注意的是，國內(nèi)企業(yè)在后道光刻機領(lǐng)域已經(jīng)取得了重......