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英特爾CEO帕特·基辛格宣布“IDM 2.0”戰(zhàn)略,實現(xiàn)制造、創(chuàng)新和產(chǎn)品的全面領(lǐng)先

來源: 中電網(wǎng)
2021-03-26
類別:業(yè)界動態(tài)
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文章創(chuàng)建人 拍明

原標(biāo)題:英特爾CEO帕特·基辛格宣布“IDM 2.0”戰(zhàn)略,實現(xiàn)制造、創(chuàng)新和產(chǎn)品的全面領(lǐng)先

英特爾CEO帕特·基辛格宣布的“IDM 2.0”戰(zhàn)略,是英特爾IDM模式的一項重大革新,旨在實現(xiàn)制造、創(chuàng)新和產(chǎn)品的全面領(lǐng)先。以下是對該戰(zhàn)略的詳細(xì)解析:

一、戰(zhàn)略背景與目標(biāo)

在競爭日益激烈的半導(dǎo)體行業(yè)中,英特爾面臨著來自臺積電、三星等企業(yè)的強勁挑戰(zhàn)。為了保持領(lǐng)先地位,英特爾需要不斷創(chuàng)新并優(yōu)化其制造、設(shè)計和交付流程。因此,帕特·基辛格提出了“IDM 2.0”戰(zhàn)略,旨在通過擴大內(nèi)部制造能力、積極采用第三方代工和對外提供代工服務(wù)等方式,實現(xiàn)制造、創(chuàng)新和產(chǎn)品的全面領(lǐng)先。

二、戰(zhàn)略內(nèi)容

  1. 擴大內(nèi)部制造能力

    • 英特爾計劃在美國亞利桑那州投資約200億美元,新建兩座晶圓廠。這些新晶圓廠將支持英特爾現(xiàn)有產(chǎn)品和客戶不斷擴大的需求,并向OEM客戶交付所承諾的產(chǎn)能。

    • 英特爾還致力于在7納米制程方面取得進展,并計劃在未來幾年內(nèi)推出更多先進的制程技術(shù)。

  2. 積極采用第三方代工產(chǎn)能

    • 英特爾希望進一步增強與第三方代工公司的合作,如臺灣積體電路制造有限公司、三星電子有限公司等。

    • 英特爾計劃從2023年開始,為英特爾客戶端和數(shù)據(jù)中心部門提供核心計算產(chǎn)品的代工生產(chǎn)。這將優(yōu)化英特爾在成本、性能、進度和供貨方面的路線圖,帶來更高靈活性、更大產(chǎn)能規(guī)模。

  3. 對外提供代工服務(wù)

    • 英特爾宣布將成立一個新的獨立業(yè)務(wù)部門——英特爾代工服務(wù)事業(yè)部(IFS),以提供世界一流的代工服務(wù)。

    • IFS事業(yè)部將結(jié)合領(lǐng)先的制程和封裝技術(shù),在美國和歐洲交付所承諾的產(chǎn)能,并支持x86內(nèi)核、ARM和RISC-V生態(tài)系統(tǒng)IP的生產(chǎn)。

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三、戰(zhàn)略實施與效果

  1. 實施計劃

    • 英特爾已經(jīng)開始了在亞利桑那州的新晶圓廠建設(shè)項目,并計劃在未來幾年內(nèi)逐步擴大其產(chǎn)能。

    • 英特爾還在積極與第三方代工公司進行合作,并計劃在未來幾年內(nèi)推出更多先進的制程技術(shù)和產(chǎn)品。

  2. 預(yù)期效果

    • 通過實施“IDM 2.0”戰(zhàn)略,英特爾將能夠提高其芯片制造能力,并滿足全球?qū)Π雽?dǎo)體生產(chǎn)的巨大需求。

    • 英特爾還將能夠優(yōu)化其成本結(jié)構(gòu),提高經(jīng)濟效益,并在競爭中保持領(lǐng)先地位。

四、戰(zhàn)略意義與影響

  1. 對英特爾的意義

    • “IDM 2.0”戰(zhàn)略是英特爾IDM模式的一項重大革新,將推動英特爾在制造、創(chuàng)新和產(chǎn)品方面的全面領(lǐng)先。

    • 通過實施該戰(zhàn)略,英特爾將能夠提高其競爭力和市場份額,并在未來保持領(lǐng)先地位。

  2. 對行業(yè)的影響

    • “IDM 2.0”戰(zhàn)略的提出和實施將推動半導(dǎo)體行業(yè)的創(chuàng)新和發(fā)展。

    • 該戰(zhàn)略還將促進英特爾與第三方代工公司之間的合作和交流,推動整個行業(yè)的共同進步。

綜上所述,“IDM 2.0”戰(zhàn)略是英特爾為了保持領(lǐng)先地位而提出的一項重大革新。通過擴大內(nèi)部制造能力、積極采用第三方代工和對外提供代工服務(wù)等方式,英特爾將能夠?qū)崿F(xiàn)制造、創(chuàng)新和產(chǎn)品的全面領(lǐng)先。


責(zé)任編輯:David

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標(biāo)簽: 數(shù)據(jù)中心 IDM EUV

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