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臺(tái)積電2021年資本支出將達(dá)200億美元，設(shè)備廠將受益
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原標(biāo)題：臺(tái)積電2021年資本支出將達(dá)200億美元，設(shè)備廠將受益
臺(tái)積電2021年的資本支出計(jì)劃實(shí)際上遠(yuǎn)超200億美元。根據(jù)臺(tái)積電官方及多個(gè)權(quán)威來源的信息，2021年臺(tái)積電的資本支出預(yù)計(jì)為250億美元至280億美元，后又上調(diào)至300~310億美元，這一數(shù)字較上一年度有了大幅的增長。
臺(tái)積電如此大規(guī)模的資本支出，主要得益于5G、高效能運(yùn)算（HPC）等領(lǐng)域的強(qiáng)勁需求，這些領(lǐng)域?qū)ο冗M(jìn)制程的需求尤為旺盛。臺(tái)積電預(yù)計(jì)，從2021年起至2025年，其每年的復(fù)合成長率將達(dá)到10%~15%。在這些先進(jìn)制程中，3納米、5納米及7納米等將是臺(tái)積電資本支出的重點(diǎn)，預(yù)計(jì)將有八成的資本支出用于這些領(lǐng)域。
臺(tái)積電大規(guī)模的資本支出計(jì)劃，無疑將為其設(shè)備供應(yīng)商帶來巨大的商機(jī)。隨著臺(tái)積電對(duì)先進(jìn)制程設(shè)備的需求不斷增加，設(shè)備供應(yīng)商將有望獲得更多的訂單和市場份額。此外，臺(tái)積電在資本支出上的增加，也將進(jìn)一步鞏固其在全球半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)先地位，推動(dòng)整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展。
總的來說，臺(tái)積電2021年的資本支出計(jì)劃遠(yuǎn)超200億美元，這一大規(guī)模的資本支出將為其設(shè)備供應(yīng)商帶來顯著的商業(yè)機(jī)會(huì)，同時(shí)也將進(jìn)一步推動(dòng)臺(tái)積電在全球半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展。
責(zé)任編輯：David
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